光刻機(jī)用于:集成電路，半導(dǎo)體，光電子器件等的研制和生產(chǎn)。更多型號(hào)請(qǐng)咨詢國產(chǎn)光刻機(jī)，evg光刻機(jī)，浸入式光刻機(jī)。

光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個(gè)圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過程。

在EUV光刻技術(shù)方面的滯后性，我國不得不從外國進(jìn)口價(jià)格高昂的成品。

據(jù)統(tǒng)計(jì)，我國連續(xù)多年從西方進(jìn)口芯片已經(jīng)超過1萬億人民幣，且這個(gè)趨勢還在不斷上漲，比如去年一整年就超過了1萬五千億，可以說集成電路已經(jīng)成為我國國庫公帑流失以及國防經(jīng)濟(jì)安全的巨大破洞。

實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)芯片

所以，此次長春光機(jī)所在EUV光刻技術(shù)方面取得重大突破，其意義已經(jīng)不亞于電磁彈射，甚至堪比峨眉發(fā)動(dòng)機(jī)。

專家指出，相信進(jìn)入十四五計(jì)劃后，中國的發(fā)展將不可阻擋，隨著國家對(duì)芯片領(lǐng)域大幅度投資和持續(xù)投入，相信中國的光刻機(jī)發(fā)展也將最終突破桎梏，其發(fā)展也將光明萬丈，前程似錦！半導(dǎo)體芯片，是信息化時(shí)代的基石，也是當(dāng)今尖端制造的制高點(diǎn)。全球芯片制造，已經(jīng)進(jìn)入10納米到7納米器件的量產(chǎn)時(shí)代。中國自主研發(fā)的第一臺(tái)7納米刻蝕機(jī)，是芯片制造和微觀加工最核心的設(shè)備之一。它采用等離子體刻蝕技術(shù)——利用有化學(xué)活性的等離子體，在硅片上雕刻出微觀電路。7納米，相當(dāng)于發(fā)絲直徑的萬分之一。這是目前人類能夠在大生產(chǎn)線上制造出的最小的集成電路布線間距，接近微觀加工的極限！而此前，中國內(nèi)地的芯片制造，僅停留在28納米的量產(chǎn)水平。如今，中國芯片制造裝備，終于與世界最先進(jìn)水平同步！

網(wǎng)友@ 靚仔集團(tuán)董事長表示：“全球就只有他家能生產(chǎn)的出來，沒有人做的出來。而且還不賣給中國。中國出多少錢都不賣。毛利1000%都可以。這個(gè)是在芯片里面畫電路的，都是幾納米，大概是頭發(fā)絲的萬分之一大小電路，你說牛B不。”

那么，到底什么設(shè)備這么牛？

答案：光刻機(jī)

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，芯片生產(chǎn)廠商要想成功地制造出芯片來，就一定要用到光刻機(jī)。

高端光刻機(jī)則可以說是全球最為精密的儀器，并有號(hào)稱“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”。目前，全球僅有極少數(shù)的光刻機(jī)設(shè)備廠商能夠研制出高端光刻機(jī)，其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持。

ASML一家獨(dú)大，英特爾、臺(tái)積電都得看它臉色！

過去，日本的佳能和尼康也研制光刻機(jī)。為防止過度依賴ASML，英特爾曾有意扶持佳能和尼康，無賴兩家日企不爭氣，在全球光刻機(jī)市場中的份額逐漸被ASML蠶食，佳能現(xiàn)在基本已放棄了光刻機(jī)業(yè)務(wù)，尼康也處于茍延殘喘中。

目前，光刻機(jī)領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭ASML，已占據(jù)了全球80%的市場份額，基本壟斷了高端光刻機(jī)（EUV光刻機(jī)）市場，且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。

尤其在14及16 奈米制程階段，包括英特爾、三星、臺(tái)積電等各家代工廠的極紫外線光刻機(jī)都來自ASML。

為英特爾承運(yùn)ASML光刻機(jī)的空橋744F

2016年，ASML獨(dú)家銷售了139臺(tái)光刻機(jī)，極紫外光刻機(jī)賣出了四臺(tái)，單臺(tái)平均售價(jià)達(dá)1.1億美元。

高度難產(chǎn)，一年只產(chǎn)12臺(tái)

由于生產(chǎn)EUV光刻機(jī)需要超高成本及高精尖技術(shù)，ASML年產(chǎn)量只有12臺(tái)，相當(dāng)于每個(gè)月只能生產(chǎn)出一臺(tái)。即便如此，ASML在2018之前的產(chǎn)能也早已被訂光光。為了讓產(chǎn)能跟上需求，ASML目前正在快馬加鞭提升生產(chǎn)效率，預(yù)計(jì)到2018年可增加到24臺(tái)，2019年達(dá)到40臺(tái)產(chǎn)能。

截止到2017年第二季度，ASML已拿到8臺(tái)最新光刻機(jī)訂單，未交付的訂單累計(jì)27臺(tái)，其中有5臺(tái)由臺(tái)積電預(yù)訂，費(fèi)款高達(dá)5.5億美元，幾乎可以購買兩架全球最大的四發(fā)雙層客機(jī)空客A380

為什么不賣給中國？

作為集成電路制造過程中最核心的設(shè)備，光刻機(jī)至關(guān)重要，芯片廠商想要提升工藝制程，沒有它萬萬不行，中國半導(dǎo)體工藝為啥提升不上去，光刻機(jī)被禁售是一個(gè)主要因素。

這么昂貴的設(shè)備，為什么不賣給中國呢？這就要提到《瓦森納協(xié)定》。光刻機(jī)被業(yè)界譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高。也正是因此，能生產(chǎn)高端光刻機(jī)的廠商非常少，到最先進(jìn)的14nm光刻機(jī)就只剩下ASML，日本佳能和尼康已經(jīng)基本放棄第六代EUV光刻機(jī)的研發(fā)。

相比之下，國內(nèi)光刻機(jī)廠商則顯得非常寒酸，處于技術(shù)領(lǐng)先的上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)的光刻機(jī)中性能最好的是90nm光刻機(jī)，制程上的差距就很大……國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。

這不僅使國內(nèi)晶圓廠要耗費(fèi)巨資購買設(shè)備，對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展和自主技術(shù)的成長也帶來很大不利影響--ASML在向國內(nèi)晶圓廠出售光刻機(jī)時(shí)有保留條款，那就是禁止用ASML出售給國內(nèi)的光刻機(jī)給國內(nèi)自主CPU做代工--只要中芯國際、華力微等晶圓廠采購的ASML光刻機(jī)，雖然不影響給ARM芯片做代工，但卻不可能給龍芯、申威等自主CPU做代工、商業(yè)化量產(chǎn)。即便是用于科研和國 防領(lǐng)域的小批量生產(chǎn)，也存在一定風(fēng)險(xiǎn)--采用陶瓷加固封裝、專供軍用的龍芯3A1500和在黨政軍市場使用的龍芯3A2000，只能是小批量生產(chǎn)，而且在宣傳上 也只能含糊其辭的說明是境內(nèi)流片……這很大程度上影響了自主技術(shù)和中國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

中國的光刻機(jī)發(fā)展水平如何

2016年，清華大學(xué)召開了“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)，專家組對(duì)項(xiàng)目任務(wù)完成情況予以高度評(píng)價(jià)，并一致同意該項(xiàng)目通過驗(yàn)收。

工件臺(tái)系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要子系統(tǒng)，工件臺(tái)系統(tǒng)的運(yùn)行速度、加速度、系統(tǒng)穩(wěn)定性和系統(tǒng)的定位建立時(shí)間對(duì)光刻機(jī)的生產(chǎn)精度和效率起著至關(guān)重要的作用。本次“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)”項(xiàng)目驗(yàn)收，標(biāo)志中國在雙工件臺(tái)系統(tǒng)上取得技術(shù)突破，但這僅僅是實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)國產(chǎn)化萬里長征的一部分，距離打破ASML的技術(shù)壟斷還有很長的路要走。

日前，“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國家科技重大專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室組織專家，在中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所召開了“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)。評(píng)審專家組充分肯定了項(xiàng)目取得的一系列成果，一致同意項(xiàng)目通過驗(yàn)收，認(rèn)為該項(xiàng)目的順利實(shí)施將我國極紫外光刻技術(shù)研發(fā)向前推進(jìn)了重要一步。

極紫外光刻光學(xué)技術(shù)代表了當(dāng)前應(yīng)用光學(xué)發(fā)展最高水平，作為前瞻性EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)研究，項(xiàng)目指標(biāo)要求高，技術(shù)難度大、瓶頸多，創(chuàng)新性高，同時(shí)國外技術(shù)封瑣嚴(yán)重

因此我們看到，中國也是取得了很大的進(jìn)步的。但是中國想要趕上，絕不是一朝一夕的事，需要各類基礎(chǔ)領(lǐng)域扎實(shí)的人才，這也是最難的。

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